TN-MSE300S-DC磁控濺射蒸發(fā)二合一真空PVD鍍膜儀將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。

特點(diǎn)

等離子體處理裝置，高效磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好；

該機(jī)實現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。

應(yīng)用領(lǐng)域

該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機(jī)殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明（半透明）膜、不導(dǎo)電膜、電磁屏蔽膜等。

名稱	磁控濺射蒸發(fā)二合一真空PVD鍍膜儀
型號	TN-MSE300S-DC
樣品臺	樣品臺尺寸φ185mm,控溫精度±1℃,轉(zhuǎn)速1-20rpm可調(diào) 濺射電流2~20mA,濺射電壓1000V 蒸發(fā)源鎢絲籃,*高溫度1700℃ 程控控溫 可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃
真空腔體	腔體尺寸φ300mm × 300mm,觀察窗口φ100mm 腔體材料不銹鋼,開啟方式上頂開式
膜厚儀	電源DC   5V（±10%），*大電流400mA 頻率分辨率±0.03Hz 膜厚分辨率0.0136?（鋁） 膜厚準(zhǔn)確度±0.5%，取決于過程條件，特別是傳感器的位置，材料應(yīng)力，溫度和密度 測量速度100ms-1s/次，可設(shè)置 測量范圍500000?（鋁） 標(biāo)準(zhǔn)傳感器晶體6MHz
質(zhì)量流量計	2路；量程100sccm；100sccm（可根據(jù)客戶需要定制多路氣路）
真空系統(tǒng)	產(chǎn)品型號TN-GZK103-A,抽氣接口KF40 分子泵TN-600,排氣接口KF16 前極泵：旋片泵 真空測量復(fù)合真空計 極限真空1.0E-5Pa 供電電源AC;220V 50/60Hz 抽氣速率分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達(dá)： 1.0E-3Pa
可選配件	金、銦、銀、白金等各種靶材
質(zhì)保	一年保修，終身技術(shù)支持。