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產品詳情
簡單介紹：
等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度，等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件
詳情介紹：
TN-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件，可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
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名稱 |
PECVD鍍膜儀 |
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型號 |
TN-PECVD-450 |
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特點 |
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技術參數 |
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規(guī)格 |
整機尺寸 1100mm x 800mm x1100mm |
